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HMDS预处理洁净干燥箱(无尘烘箱)

更新时间:2019-09-24

简要描述:

HMDS预处理洁净干燥箱(无尘烘箱)通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

HMDS预处理系统的必要性:

HS40在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况

HMDS预处理洁净干燥箱(无尘烘箱)产品特点:
1、机外壳采用冷轧板烤漆处理,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。

4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。
5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。

6、整个系统采用材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。

HMDS预处理洁净干燥箱(无尘烘箱)产品技术参数:

电源电压:AC220V±10%/50Hz±2%

输入功率:3000W

控温范围:室温+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃

达到真空度:133Pa

容积:90L

工作室尺寸(mm):450*450*450

外形尺寸(mm):615*615*900
载物托架:2块

时间单位:分钟
 通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS的工作温度、处理时间

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